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價(jià)格：電議
所在地：北京
型號(hào)：1-3mm
更新時(shí)間：2020-08-28
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公司地址：北京市海淀區(qū)清河永泰創(chuàng)新園
高峻峰(女士) 經(jīng)理
北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中關(guān)村科技園區(qū)的國家高新技術(shù)企業(yè)，由業(yè)內(nèi)龍頭企業(yè)為發(fā)起人，整合了國內(nèi)科研院校的優(yōu)勢(shì)資源，吸收國內(nèi)外先進(jìn)科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富，資金力量雄厚，通過ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認(rèn)證，具有自主進(jìn)出口權(quán)。
北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)方面，有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以堅(jiān)強(qiáng)的技術(shù)為基礎(chǔ)，我公司開發(fā)了多個(gè)系列的新材料，這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫(yī)藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線，生產(chǎn)設(shè)備先進(jìn)，工藝完善。
目前，我們的客戶遍及美國．德國．日本．韓國．臺(tái)灣．香港等十幾個(gè)國家和地區(qū)，包括國內(nèi)外科研軍工，上市公司等知名企事業(yè)在內(nèi)的六百余家單位。
北京中金研新材料科技有限公司下設(shè)鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部，熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠信為本，科技為本的理念，致力打造成金屬新材料行業(yè)的領(lǐng)頭羊。
磁控濺射靶材
（可為電子與半導(dǎo)體，平面顯示行業(yè)，建筑與汽車玻璃行業(yè)，薄膜太陽能電池行業(yè)，磁存儲(chǔ)行業(yè)，工具行業(yè)，裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材）
高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶，鉻靶，銅靶，鎳靶，硅靶，鍺靶，鈮靶材，鈦鈀，銦靶，銀靶，錫靶，石墨靶，鉭靶，鉬靶，金靶，鉿靶，錳靶，鋯靶，鎂靶，鋅靶，鉛靶，銥靶，釔靶，鈰靶，鑭靶，鐿靶，釓靶，鉑靶等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶，AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶，氧化釔靶，氧化鐵靶材，,氧化鎳靶，氧化鉻靶，氧化鋅靶，硫化鋅靶，硫化鎘靶材，硫化鉬靶，二氧化硅靶，一氧化硅靶，二氧化鋯靶，五氧化二鈮靶，二氧化鈦靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，氟化鎂靶，硒化鋅靶，氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶材，鈮酸鋰靶，鈦酸鐠靶材，鈦酸鋇靶，鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.
備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界最先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對(duì)密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶，鎳鉻合金靶，鈦鋁合金靶，硅鋁合金靶，銅銦合金靶，銅鎵合金靶，銅銦鎵合金靶，銅銦鎵硒靶，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶，鎢鈦靶，，鐵鈷靶，白銅靶等高純合金濺射靶材。
備注：CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對(duì)密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
磁控濺射靶材
（可為電子與半導(dǎo)體，平面顯示行業(yè)，建筑與汽車玻璃行業(yè)，薄膜太陽能電池行業(yè)，磁存儲(chǔ)行業(yè)，工具行業(yè)，裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材）
高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶Al，鉻靶Cr，銅靶Cu，鎳靶Ni，硅靶Si，鍺靶Ge，
鈮靶Nb，鈦鈀Ti，銦靶In，銀靶Ag，錫靶Sn，石墨靶C，鉭靶Ta，鉬靶Mo，金靶Au，
鉿靶Hf，錳靶Mn，鋯靶Zr，鎂靶Mg，鋅靶Zn，鉛靶Pb，銥靶Ir，釔靶Y，鈰靶Ce，
鑭靶La，鐿靶Yb，釓靶Gd，鉑靶Pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3，
氧化鐵靶Fe2O3,氧化鎳靶Ni2O3，氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鎘靶CdS，
硫化鉬靶MoS2，二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、
二氧化鈦靶TiO2,二氧化鉿靶HfO2，二硼化鈦靶TiB2，二硼化鋯靶ZrB2，三氧化鎢靶WO3，
三氧化二鋁靶Al2O3，五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、硒化鋅靶ZnSe、氮化鋁靶AlN，
氮化硅靶Si3N4，氮化硼靶BN，氮化鈦靶TiN，碳化硅靶SiC，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、
鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.
備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界最先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對(duì)密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶Ni-V，鎳鉻合金靶Ni-Cr，鈦鋁合金靶Ti-Al，硅鋁合金靶Si-Al，銅銦合金靶Cu-In，銅鎵合金靶Cu-Ga，銅銦鎵合金靶Cu-In –Ga，銅銦鎵硒靶Cu-In –Ga-Se，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶Zn-Al，鎢鈦 W-Ti，鐵鈷 Fe-Co，白銅靶等高純合金濺射靶材。
備注：CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對(duì)密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
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