2016款光譜橢偏儀

河北慧采科技有限公司

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價格：電議

所在地：河北邢臺市

型號：2016款

更新時間：2017-10-28

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公司地址：河北省邢臺市橋東區(qū)唐寧10號

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產(chǎn)品簡介

寶雞光譜橢偏儀|橢偏儀測量薄膜厚度|怎么達(dá)到工作狀態(tài)光譜橢偏儀

公司簡介

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產(chǎn)品說明

產(chǎn)品簡介: VP02是橢偏儀配套使用的通用微型真空吸附泵。 VP02與橢偏儀配合，用于把較薄的樣品穩(wěn)定地吸附到樣品臺面上，對于傾斜放置的平面樣品尤其重要。 VP02采用通用真空泵部件，具有開關(guān)，操作方便。特點(diǎn)：吸附力強(qiáng) 限壓力可達(dá)到-50KPa。壽命長使用壽命可達(dá)到5000h。噪聲低噪聲小于40dB，采用獨(dú)特的消聲管，可更安靜。體積小外形體積僅為：130 x 79 x 206mm3。應(yīng)用： VP02用于把較薄的樣品穩(wěn)定地吸附到樣品臺面上，對于傾斜放置的平面樣品尤其重要。 VP02可與臺式橢偏儀配套使用。 VP02也可單獨(dú)使用。技術(shù)指標(biāo)：項(xiàng)目內(nèi)容名稱微型真空吸附泵型號 VP02 限壓力（KPa） -50 抽氣速率（l/min） 5 工作周期連續(xù) 使用壽命（h）

【溫馨提示】
本公司產(chǎn)品因產(chǎn)品種類繁多，詳細(xì)配置價格請致電咨詢！
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寶雞光譜橢偏儀|橢偏儀測量薄膜厚度|怎么達(dá)到工作狀態(tài)

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寶雞光譜橢偏儀|橢偏儀測量薄膜厚度|怎么達(dá)到工作狀態(tài)多種型號內(nèi)容

型號:JX200100ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

ESS03是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量領(lǐng)域推出的波長掃描式多入射角光譜橢偏儀，此系列儀器的波長范圍覆蓋紫外、可見、近紅外、到遠(yuǎn)紅外。
ESS03采用寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實(shí)現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量。
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，膜層厚度、表面微粗糙度等）和光學(xué)參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k、復(fù)介電常數(shù)ε等），也可用于測量塊狀材料的光學(xué)參數(shù)。
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。
技術(shù)特點(diǎn)：
寬的光譜范圍
采用寬光譜光源、寬光譜掃描德系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)，保證了儀器在寬的光譜范圍下都具有高準(zhǔn)確度，非常適合于對光譜范圍要求其嚴(yán)格的場合。
靈活的測量設(shè)置
儀器的多個關(guān)鍵參數(shù)可根據(jù)要求而設(shè)定（包括：波長范圍、掃描步距、入射角度等），大地提高了測量的靈活性，可以勝任要求苛刻的樣品。
原子層量級的檢測靈敏度
的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的設(shè)計(jì)和制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級地納米薄膜，膜厚精度達(dá)到0.05nm。
非常經(jīng)濟(jì)的技術(shù)方案
采用較經(jīng)濟(jì)的寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實(shí)現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量，儀器整體成本得到有效降低。
應(yīng)用領(lǐng)域：
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。
ESS03適合很大范圍的材料種類，包括對介質(zhì)材料、聚合物、半導(dǎo)體、金屬等的實(shí)時和非實(shí)時檢測，光譜范圍覆蓋半導(dǎo)體地臨界點(diǎn)，這對于測量和控制合成的半導(dǎo)體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）。
ESS03可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。
薄膜相關(guān)應(yīng)用涉及物理、化學(xué)、信息、環(huán)保等，典型應(yīng)用如：
半導(dǎo)體：如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）；
平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；
生物和化學(xué)工程：有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等。
節(jié)能環(huán)保領(lǐng)域：LOW-E玻璃等。
ESS03系列也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。典型應(yīng)用包括：
玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。

技術(shù)指標(biāo)：

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
光譜范圍	ESS03VI：370-1700nm ESS03UI：245-1700nm
光譜分辨率（nm）	可設(shè)置
入射角度	40°-90°手動調(diào)節(jié)，步距5，重復(fù)性0.02
準(zhǔn)確度	δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° （透射模式測空氣時）
膜厚測量重復(fù)性（1）	0.05nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率n測量重復(fù)性（1）	0.001 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
單次測量時間	典型0.6s / Wavelength / Point（取決于測量模式）
光學(xué)結(jié)構(gòu)	PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有高的準(zhǔn)確度）
可測量樣品尺寸	直徑200 mm
樣品方位調(diào)整	高度調(diào)節(jié)范圍：10mm
樣品方位調(diào)整	二維俯仰調(diào)節(jié)：±4°
樣品對準(zhǔn)	光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對準(zhǔn)系統(tǒng)
軟件	•多語言界面切換
	•預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用
	•安全的權(quán)限管理模式（管理員、操作員）
	•方便的材料數(shù)據(jù)庫以及多種色散模型庫
	•豐富的模型數(shù)據(jù)庫
選配件	自動掃描樣品臺聚焦透鏡

注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
樣品池

欄目頁面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光譜橢偏儀
來源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200100.html
ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀
型號:JX200094EM12-PV 精致型多入射角激光橢偏儀（光伏專用）

EM12-PV是采用量拓科技的測量技術(shù)，針對中端精度需求的光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的精致型多入射角激光橢偏儀。
EM12-PV用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。
EM12-PV融合多項(xiàng)量拓科技，采用一體化樣品臺技術(shù)，兼容測量單晶和多晶太陽電池樣品。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡單安全。
特點(diǎn)：
粗糙絨面納米薄膜的測量
的光能量增強(qiáng)技術(shù)、低噪聲的探測器件以及高信噪比的微弱信號處理方法，實(shí)現(xiàn)了對粗糙表面散射為主和低反射率為特征的絨面太陽電池表面納米鍍層的檢測。
次納米量級的高靈敏度和準(zhǔn)確度
的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了高準(zhǔn)確度和穩(wěn)定性，測量絨面減反膜的厚度精度優(yōu)于0.2nm。
1.6秒的快速測量
水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證和準(zhǔn)確度的同時，可在1.6秒內(nèi)快速完成一次測量，可滿足快速多點(diǎn)檢測和批量檢測需求。
簡單方便安全的儀器操作
一鍵式操作設(shè)計(jì)，用戶只需一個按鈕即可完成復(fù)雜的材料測量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出，豐富的模型庫和材料庫也同時方便了用戶的操作需求。
應(yīng)用：
EM12-PV適合于光伏領(lǐng)域中端精度要求的工藝研發(fā)和現(xiàn)場的質(zhì)量控制。
EM12-PV可用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面上單層減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n，典型納米膜層包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等，應(yīng)用領(lǐng)域包括晶體硅太陽電池、薄膜太陽電池等。
EM12-PV也可用于測量光滑平面基底上的單層或雙層納米薄膜，包括膜層的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系數(shù)k。也可用于測量塊狀材料（包括，液體、金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等）在632.8nm下的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體、微電子、平板顯示等。

技術(shù)指標(biāo)：

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號	EM12-PV
激光波長	632.8nm (He-Ne Laser)
膜厚測量重復(fù)性（^1）	0.2nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
膜厚測量重復(fù)性（^1）	0.2nm (對于絨面Si基底上80nm的Si3N4膜層)
折射率精度（^1）	2x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率精度（^1）	2x10-3 (對于絨面Si基底上80nm的Si3N4膜層)
單次測量時間	與測量設(shè)置相關(guān)，典型1.6s
光學(xué)結(jié)構(gòu)	PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有高的準(zhǔn)確度）
激光光束直徑	1-2mm
入射角度	40°-90°可手動調(diào)節(jié)，步進(jìn)5°
樣品方位調(diào)整	一體化樣品臺輕松變換可測量單晶或多晶樣品
	可測量156*156mm電池樣品上每個點(diǎn)
	Z軸高度調(diào)節(jié)：±6.5mm
	二維俯仰調(diào)節(jié)：±4°
	樣品對準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對準(zhǔn)系統(tǒng)
樣品臺尺寸	平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm
樣品臺尺寸	兼容125125mm和156156mm的太陽能電池樣品
的膜層厚度范圍	粗糙表面樣品：與絨面物理結(jié)構(gòu)及材料性質(zhì)相關(guān)
的膜層厚度范圍	光滑平面樣品：透明薄膜可達(dá)4um，吸收薄膜與材料性質(zhì)相關(guān)
外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角為90º時)
儀器重量（凈重）	25Kg
選配件	水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺
選配件	真空吸附泵
軟件	ETEM軟件：
	中英文界面可選太陽能電池樣品預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持

注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證：
穩(wěn)定的He-Ne激光光源、的采樣方法以及低噪聲探測技術(shù)，保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度
一體化樣品臺技術(shù)，兼容單晶和多晶硅太陽電池樣品,輕松變換可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確測量
的光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)系統(tǒng)，保證了快速、的樣品方位對準(zhǔn)
樣品調(diào)節(jié)技術(shù)，有效提高樣品定位精度，并節(jié)省操作時間
光電增強(qiáng)技術(shù)和獨(dú)特的噪聲處理方法，顯著降低現(xiàn)場噪聲的影響
一體化集成式儀器整體設(shè)計(jì)，保證了系統(tǒng)穩(wěn)定性，并節(jié)省空間
分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和厚度的測量
一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
VP01真空吸附泵
VP02 真空吸附泵

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光譜橢偏儀
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EM12-PV 精致型多入射角激光橢偏儀（光伏專用）
型號:JX200088VP02 真空吸附泵

VP02是橢偏儀配套使用的通用微型真空吸附泵。
VP02與橢偏儀配合，用于把較薄的樣品穩(wěn)定地吸附到樣品臺面上，對于傾斜放置的平面樣品尤其重要。
VP02采用通用真空泵部件，具有開關(guān)，操作方便。
特點(diǎn)：
吸附力強(qiáng)
限壓力可達(dá)到-50KPa。
壽命長
使用壽命可達(dá)到5000h。
噪聲低
噪聲小于40dB，采用獨(dú)特的消聲管，可更安靜。
體積小
外形體積僅為：130 x 79 x 206mm3。
應(yīng)用：
VP02用于把較薄的樣品穩(wěn)定地吸附到樣品臺面上，對于傾斜放置的平面樣品尤其重要。
VP02可與臺式橢偏儀配套使用。
VP02也可單獨(dú)使用。
技術(shù)指標(biāo)：

項(xiàng)目	內(nèi)容
名稱	微型真空吸附泵
型號	VP02
限壓力（KPa）	-50
抽氣速率（l/min）	5
工作周期	連續(xù)
使用壽命（h）	5000
噪聲dB（A）	40
凈重（kg）	0.88
體積（mm³）	130 x 79 x 206
電壓(V DC)	24
負(fù)載電流（A）	< 0.23

欄目頁面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光譜橢偏儀
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VP02 真空吸附泵

寶雞光譜橢偏儀|橢偏儀測量薄膜厚度|怎么達(dá)到工作狀態(tài)多種型號圖片


型號:JX200100ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀	型號:JX200094EM12-PV 精致型多入射角激光橢偏儀（光伏專用）	型號:JX200088VP02 真空吸附泵

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