器由倒置式改為正置式，更符合人們的操作習慣；
應用CMOS代替CCD，省去圖象卡并提高了質量；
用低壓電源代替高壓電源，節省了儀器成本；
用國產的代替德國進口壓電陶瓷，解決了關鍵部件的進口難題；
增加了自動步距和亮度校正程序，同時增加了局部放大三維立體圖功能；
表面微觀不平深度測量范圍：130?1nm
測量的重復性：sRa≤0.5nm
測量精度：8nm
物鏡倍率：40X
數值孔徑：0.65
儀器視場 目視：f0.25mm
攝象：0.13X0.13mm
儀器放大倍數 目視：500X
攝象（計算機屏幕觀察）：2500X
接收器測量列陣：1000X1000
象素尺寸：5.2X5.2nm
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