射頻磁控濺射鍍膜裝置 DH-RM-1

產品/服務：射頻磁控濺射鍍膜裝置 DH-RM-1
型號：DH-RM-1
單價：面議
更新日期：2024-03-07
有效期至：長期有效
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產品簡介

射頻磁控濺射鍍膜裝置型號：DH-RM-1射頻磁控濺射鍍膜裝置主要用途：本設備主要用于大專院校研究和開發納米單層膜；如各種硬...

產品詳細介紹

射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號：DH-RM-1

射頻磁控濺射鍍膜裝置 主要用途：本設備主要用于大專院校研究和開發納米單層膜；如各種硬質膜、金屬膜；也可以是非金屬、化合物等薄膜材料。可以行直接濺射，亦可以實現反應濺射。

射頻磁控濺射鍍膜裝置 主要特點：結構簡捷、操作簡便，真空度維護，安。

鍍膜機應安裝在干凈無塵埃、無腐蝕性氣體的室內，并具備清潔水源、及220V的穩定電壓等條件的地方。

1、地面的基本水平度要經過調整，不得低不平；

2、環境溫度：10℃～30℃；

3、相對濕度：不大于75%；

4、耗水量（水溫度≤25℃，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h；

5、水質要求：

矽酸硬度<6度，PH值：7－8，電導率：200us/cm,沉積率：<200mg/L。

6、電壓： 220V，50H_Z，

電壓波動范圍： 198～231V；

頻率波動范圍：49～51Hz;

7、水壓：0.3～1Kg/cm²或0.03～0.1MPa/cm²;

8、充入氣體純度99.9%或以上;

9、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。

北京恒奧德儀器儀表有限公司

聯系方式：/57696
：/
: 凡經理
地址 : 北京市海淀區阜城路42號院中裕商務花園6C-211
：
郵箱：hadgs2009@163.com
網址：http://www.51658042.com。 http://www.had200911.cn
: http://had200911.b2b.hc360.com。54pc.com/netshow/20100104193745/
QQ : 1968156761 1169121880 236261341

設備規格參數

1.1、濺射處理室：

1、鐘罩：內徑225mm×度260mm；

2、試樣臺：直徑80mm（zui大）；

3、試樣旋轉：靜止；

4、擋板：手動；

5、襯底加熱器：不銹鋼加熱器（DC24V）；

6、襯底溫度范圍：室溫～200℃；

7、襯底可調距離：20mm～60mm；

8、濺射室限真空：0.5Pa

1.2、真空系統：

1、抽氣系統：由機械泵組成的真空系統；抽氣速率：4升/S

2、真空檢測：電阻真空計、電阻規；

3、常用真空度：1～20Pa

4、操作：手動

1.3、濺射電源：

1、射頻電源：頻率13.560MHZ,率：500W，用表示；

2、阻抗匹配器范圍：（2.7～45）Ω-j（0～70）Ω；

3、供電：AC 220V；

4、冷卻方式：風冷；

1.4、磁控靶：

1、靶材直徑：Ф50mm、個磁靶；

2、靶材厚度：3～6mm；

1.5、氣系統：2路轉子流量計氣，

1.6、電源要求：AC 220V 50Hz 10A

1.7、氣體要求：氬氣--純度99.9%(樣品有特殊要求時使用純)

1.8、冷卻要求：靶體水冷，濺射電源風冷

1.9、體積重量：體積：L550mm×W680mm×H1480mm；約120kg

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