產品簡介
PMEye-3000光致發光光譜成像（PL-Mapping）測量系統是卓立漢光新研制的，用于LED外延片、半導體晶片、太陽能電池材料等，在生
公司簡介
北京卓立漢光儀器有限公司是一家集光學、精密機械、電子、計算機技術于一體的高科技企業。卓立漢光自1999年起，通過十年的不斷努力，成長為光電儀器知名廠商。目前公司的電控位移臺、手動位移臺、光學調整架等產品已經形成產品系列化,規格多元化，國內多家科研單位、激光加工設備廠商、光纖設備廠商在使用我們的產品。2000年推出國內第一套量產型三光柵光譜儀后，不斷推出了多套熒光、拉曼、光電探測器光譜響應、太陽能電池檢測等光譜測量系統，廣泛應用在眾多高校和科研院所的研究與試驗,為國家科技創新貢獻了一份力量，產品憑借優良的品質遠銷歐美、東南亞等海外市場。 2005年10月在同行業中率先通過ISO9001質量管理體系SGS國際認證。
卓立漢光主要生產經營：光譜儀、光譜測量系統、光量測儀器、電控精密位移臺、手動精密位移臺、光學調整架、光學平臺、光學元件等系列產品。
我們誠心聆聽用戶的需要與批評，作為不斷改進的動力，能讓您滿意卓立漢光的產品及服務，就是我們最大的成就。因此我們以卓立漢光的光機產品提供 “終身保固” 的承諾,來表達我們對產品的信心。我們堅持從設計、零件選型、制造、裝配、檢驗、包裝、運輸、直到售后服務做好全方位質量保證，就是要讓您 “付有所值”，以合理的價位得到優質的產品，這是我們對您選擇卓立漢光真誠的回報。
卓立漢光始終以滿足用戶需求為宗旨，分別于上海、 成都、 深圳設立分公司，為用戶提供及時周到的銷售與技術服務。“研發創新、快速反應、優質服務” 是我們的經營理念， 公司長期重視優質高效、最短時間為客戶開發產品及提供技術支持。卓立漢光真誠的希望與國內外同仁攜手合作，為推動我國光電產業迅猛發展做出貢獻。
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產品說明
PMEye-3000光致發光光譜成像（PL-Mapping）測量系統是卓立漢光新研制的，用于LED外延片、半導體晶片、太陽能電池材料等，在生產線上的質量控制和實驗室中的產品研發檢測。該系統對樣品的PL譜進行Mapping二維掃描成像，掃描結果以3D方式進行顯示，使檢測結果更易于分析和比較。該系統的軟件窗口界面友好，操作簡單，只需簡單培訓就能使用。
測試原理：
PL（光致發光）是一種輻射復合效應。在一定波長光源的激發下，電子吸收激發光子的能量，向高能級躍遷而處于激發態。激發態是不穩定的狀態，會以輻射復合的形式發射光子向低能級躍遷，這種被發射的光稱為熒光。熒光光譜代表了半導體材料內部，一定的電子能級躍遷的機制，也反映了材料的性能及其缺陷。PL是一種用于提供半導體材料的電學、光學特性信息的光譜技術，可以研究帶隙、發光波長、結晶度和晶體結構以及缺陷信息等等。
應用領域舉例：
LED外延片，太陽能電池材料，半導體晶片，半導體薄膜材料等檢測與研究。
主要特點：
◆ PLMapping測量
◆ 多種激光器可選
◆ Mapping掃描速度：180點/秒
◆ 空間分辨率：50um
◆ 光譜分辨率：0.1nm@1200g/mm
◆ Mapping結果以3D方式顯示
◆ zui大8吋的樣品測量
◆ 樣品定位
◆ 樣品真空吸附
◆ 可做低溫測量
◆ 膜厚測量 |
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一體化設計，操作符合人體工學
PMEye3000 PL Mapping測量系統采用立式一體化設計，關鍵尺寸根據人體工學理論設計，不管是樣品的操作高度和電腦使用高度，都特別適合于人員操作。主機與操作平臺高度集成，方便于在實驗室和檢測車間里擺放。儀器側面設計有可收放平臺，可擺放液晶顯示器和鼠標鍵盤。儀器底部裝有滾輪，方便于儀器在不同場地之間的搬動。
模塊化設計
PMEye-3000 PL Mapping測量系統采用模塊化設計思想，可根據用戶的樣品特點來選擇規格配置，讓用戶有更多的選擇余地。激發光源、樣品臺、光譜儀、探測器、數據采集設備都實現了模塊化設計。
操作簡便、全電腦控制
PMEye-3000 PL Mapping測量系統，采用整機設計，用戶只需要根據需要放置檢測樣品，無需進行復雜的光路調整，操作簡便；所有控制操作均通過計算機來控制實現。
全新的樣品臺設計，采用真空吸附方式對樣品進行固定，避免了用傳統方式固定樣品而造成的損壞；可對常規尺寸的LED外延片樣品進行定位，提高測量重復精度。
兩種測量方式,用途更廣泛
系統采用直流和交流兩種測量模式，直流模式用于常規檢測，交流模式用于微弱熒光檢測。
監控激發光源,校正測量結果
一般的PL測量系統只是測量熒光的波長和強度，而沒有對激發光源進行監控，而激發光源的不穩定性將會對PL測量結果造成影響。PMEye-3000 PL Mapping測量系統增加對激光強度的監控，并根據監控結果來對PL測量進行校正。這樣就可以消除激發光源的不穩定帶來的測量誤差。
激光器選配靈活
PMEye-3000 PL Mapping測量系統有多種高穩定性的激光器可選，系統多可內置2個激光器和一個外接激光器，標配為1個405nm波長高穩定激光器。用戶可以根據測量對象選配不同的激光器，使PL檢測更加。
可選配的激光器波長有： 405nm，442nm，532nm、785nm、808nm等，外置選配激光器波長為：325nm。
自動Mapping功能
PMEye-3000 PL Mapping測量系統配置200×200mm的二維電控位移臺，zui大可測量8英寸的樣品。用戶可以根據不同的樣品規格來設置掃描區域、掃描步長、掃描速度等，掃描速度可高達每秒180個點，空間分辨率可達50um。掃描結果以3D方式顯示，以不同的顏色來表示不同的熒光強度。
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軟件功能豐富,操作簡便
我們具有多年的測量系統操作軟件開發經驗，,熟悉試驗測量需求和用戶的操作習慣，從而使開發的這套PMEye-3000操作軟件功能強大且操作簡便。
MEye-3000操作軟件提供單點PL光譜測量及顯示，單波長的X-Y Mapping測量，給定光譜范圍的X-Y Mapping測量及根據測量數據進行峰值波長、峰值強度、半高寬、給定波長范圍的熒光強度計算并以Mapping顯示，Mapping結果以3D方式顯示。同時具有多種數據處理方式來對所測量的數據進行處理。 |
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低溫樣品室附件
該附件可實現樣品在低溫狀態下的熒光檢測。
有些樣品在不同的溫度條件下，將呈現不同的熒光效果，這時就需要對樣品進行低溫制冷。
如圖所示，從圖中我們可以發現在室溫時，GaN薄膜的發光波長幾乎涵蓋整個可見光范圍，且強度的zui高峰出現在580nm附近，但整體而言其強度并不強；隨著溫度的降低，發光強度開始慢慢的增加，直到110K時，我們可以發現在350nm附近似乎有一個小峰開始出現，且當溫度越降越低，這個小峰強度的增加也越顯著，一直到zui低溫25K時，基本上就只有一個熒光峰。
GaN薄膜的禁帶寬度在室溫時為3.40Ev,換算成波長為365nm，而我們利用PL系統所測的GaN薄膜在25K時在356.6nm附近有一個峰值，因此如果我們將GaN薄膜的禁帶寬度隨溫度變化情況也考慮進去，則可以發現在理論上25K時GaN的禁帶寬度為3.48eV，即特征波長為357.1nm，非常靠近實驗所得的356.6nm，因此我們可以推斷這個發光現象應該就是GaN薄膜的自發輻射。
主要功能和技術參數
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掃描模式
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單點光譜掃描；單波長Mapping
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攝譜模式
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峰值波長Mapping；峰值強度Mapping； 半高寬Mapping；給定波長范圍的熒光強度Mapping
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膜厚測量
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單點膜厚測量
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光源
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405nm激光（標配）；150W溴鎢燈
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光譜儀
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三光柵DSP掃描光譜儀
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光譜儀焦距
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300mm（標配）
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500mm
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光譜分辨率
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0.1nm(1200g/mm光柵)
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0.05nm(1200g/mm光柵)
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倒線色散(nm/mm)
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2.7(1200g/mm光柵)
5.4(600g/mm光柵)
10.8(300g/mm光柵)
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1.7(1200g/mm光柵)
3.4(600g/mm光柵)
6.8(300g/mm光柵)
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探測器
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Si探測器，光譜響應范圍：200～1100nm （標配）
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數據采集設備
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帶前置放大器的數字采集器DCS300PA（標配） 鎖相放大器SR830（選配）
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二維位移平臺
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行程200*200mm，重復定位精度<3μm
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樣品臺
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具有真空吸附功能 對主流的2’’,3’’,4’’,5’’,6’’,8’’的晶片可進行定位
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Mapping掃描速度
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高達180點/秒
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Mapping位移步長
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zui小可到1um
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空間分辨率
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50um
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重復定位精度
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<3um
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可選擇探測器
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探測器類型
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光譜響應范圍
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R1527光電倍增管
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200～680nm
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CR131光電倍增管
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200～900nm
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DSi300硅光電探測器
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200～1100nm
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DInGaAs1700常溫型銦鎵砷探測器
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800～1700nm
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DInGaAs1900制冷型銦鎵砷探測器
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800～1900nm
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DinGaAs2200制冷型銦鎵砷探測器
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800～2200nm
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DinGaAs2600制冷型銦鎵砷探測器
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800～2600nm
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可選擇的內置激光器：
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波長
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穩定性
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功率
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355nm
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<10%
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1～20mW
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405nm
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<1%
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1～300mW
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442nm
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<1%
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1～50mW
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532nm
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<1%
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1～450mW
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561nm
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<1%
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1～200mW
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635nm
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<1%
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1～500mW
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785nm
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<1%
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1～300mW
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808nm
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<1%
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1～500mW
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可選擇的外置激光器：
325nm HeCd激光器，功率有：10、15、20、、25、30、40、45、50、55、80、100mW等。
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